外延生长 指的是一个晶体在另一个晶体之上的形成。 初始晶体的晶格结构决定了沉积晶体的生长。简单来说，外延生长是在单晶基底上沉积一层薄薄的（0.5 至 20 微米）单晶材料涂层的过程，通常通过化学气相沉积 (CVD) 进行。
外延层有哪些应用？
外延层的应用领域很广泛：
- 分立器件和功率器件
- MOS 器件外延
- 集成电路
- 外延技术也用于 CMOS VLSI 电路。
- 外延形状也用于单极器件，例如结型场效应晶体管 (JFET)、VMOS 和 DRAM 技术。
硅外延有哪些技术？
一些硅外延技术包括：
1.液相外延： 溶液技术用于液相外延 (LPE)，在基板上生长晶体。基板浸入饱和量的溶质溶液中。现代电子和半导体中使用的许多晶体 光电器件诸如砷化镓之类的材料就是用这种方法生长的。
2.分子束外延（MBE）： 这是一种实验技术，用于逐层生长不同量子材料的薄膜。MBE 是目前最清洁的薄膜生长技术之一，但它也是技术难度最大、要求最高的技术之一，因为 MBE 生长是在超高真空 (UHV) 环境中进行的。
另请阅读: 什么是晶体硅？
